德國(guó)AIXTRON愛思強(qiáng)股份有限公司(法蘭克福證券交易所:AIXA;納斯達(dá)克:AIXG)今日宣布,一家大型存儲(chǔ)器制造商驗(yàn)證認(rèn)可其QXP-8300原子層沉積技術(shù)(ALD)小批次生產(chǎn)系統(tǒng)適合各種先進(jìn)存儲(chǔ)器應(yīng)用的高介電系數(shù)氧化膜,包括3D結(jié)構(gòu)元件。
AIXTRON愛思強(qiáng)在矽半導(dǎo)體制造科技達(dá)到里程碑
AIXTRON愛思強(qiáng)美國(guó)分公司副總裁兼總經(jīng)理BillBentinck表示,“我們非常高興地了解到,我們的客戶已經(jīng)完成對(duì)QXP-8300ALD系統(tǒng)是否適合制造最先進(jìn)高性能存儲(chǔ)元件的評(píng)估。QXP-8300ALD系統(tǒng)能夠制造具備卓越電子和元件性能的先進(jìn)薄膜。AIXTRON愛思強(qiáng)期望以提供生產(chǎn)設(shè)備,進(jìn)一步支持客戶的存儲(chǔ)器開發(fā)計(jì)劃,以解決產(chǎn)業(yè)快速發(fā)展帶來(lái)的挑戰(zhàn)?!?/p>
隨著半導(dǎo)體存儲(chǔ)單元的尺寸不斷縮小,制造商需要更先進(jìn)的技術(shù),用于沉積精密介電層、金屬和非易失性存儲(chǔ)材料。AIXTRON愛思強(qiáng)QXP-8300ALD系統(tǒng)包括已獲專利的三噴頭(TriJet)汽化器技術(shù),該技術(shù)與獨(dú)特的近耦合噴淋頭設(shè)計(jì)結(jié)合,可使在制造超高介電值的介電和金屬氮化物的過(guò)程中,能夠按實(shí)際需要使用低蒸氣壓前驅(qū)體,從而能夠提高性能。
關(guān)于AIXTRON愛思強(qiáng)
AIXTRON愛思強(qiáng)是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)領(lǐng)先的沉積設(shè)備供應(yīng)商。該公司成立于1983年,總部設(shè)在德國(guó)黑措根拉特(靠近亞琛),并在亞洲、美國(guó)及歐洲設(shè)有子公司及銷售辦事處。該公司的技術(shù)解決方案被全世界廣泛的客戶所使用,以制造先進(jìn)的電子和光電子應(yīng)用元件,這些元件乃基于化合物、矽或有機(jī)半導(dǎo)體材料。該元件被廣泛用于創(chuàng)新應(yīng)用、技術(shù)及行業(yè),其中包括LED應(yīng)用、顯示技術(shù)、數(shù)據(jù)存儲(chǔ)、數(shù)據(jù)傳輸、能源管理和轉(zhuǎn)化、通訊、信號(hào)燈和照明技術(shù)以及其他尖端技術(shù)。