Nitride開發首款用于半導體制程曝光系統的UV LED

　　據外媒報道，日本Nitride Semiconductors已開發出一款波長為365nm的UV LED芯片，并宣稱是首個用于半導體和PCB制程曝光系統的紫外光源。

　　據悉，用于半導體制程的曝光系統目前仍使用紫外汞燈，存在待機時間長、工作壽命短、紫外光照度穩定性低、開關控制不便等功能性限制問題。另外，由于環境污染問題，預計《水俁公約》的實施將推動LED光源加快替代含汞光源。

　　Nitride Semiconductors表示，波長為365nm的新型NS365L-9RXT UV LED芯片具有效率高、節能且壽命長等特點，在正向電流If為3A，正向電壓Vf為4.6V的條件下，紫外輸出功率為3.2W。同時，這款UV LED結構非常緊湊，尺寸為9mm(長) x 9mm(寬) x 8.5mm(高)，因此安裝密度更高。

　　新型UV LED還具有適用于半導體曝光的窄發光角。通常情況下，半導體制程為實現精準曝光，需要使用平行光。然而，由于UV LED光源發光角比較寬(約120°)，用于曝光所獲的光量往往不足。因此，通過結合深度反射鏡與高透光率透鏡，該公司實現了小于或等于15°的發光角。這表明UV LED有可能直接替換傳統曝光系統所用的UV光源，無需購買新的UV LED曝光系統。