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              技術(shù)前沿:利用ALD鈍化提高Micro LED性能

              2019/5/6 9:32:33 作者: 來源:OFweek
              摘要:據(jù)外媒報道,工業(yè)原子層沉積(ALD)薄膜涂層技術(shù)領(lǐng)先供應商Picosun集團日前表示,通過使用一種稱為ALD鈍化的技術(shù)提高了其Micro LED的性能。

                據(jù)外媒報道,工業(yè)原子層沉積(ALD)薄膜涂層技術(shù)領(lǐng)先供應商Picosun集團日前表示,通過使用一種稱為ALD鈍化的技術(shù)提高了其Micro LED的性能。

                Picosun認為,對于包括液晶顯示器、OLED以及傳統(tǒng)LED等現(xiàn)有顯示技術(shù)來講,Micro LED是一大挑戰(zhàn)。因為Micro LED提供了包括體積小、低功耗、卓越的亮度及能效、更高的對比度及色彩飽和度、超高分辨率、靈活性以及良好的可靠性等性能。

                目前全球許多領(lǐng)先的電子制造商和研發(fā)機構(gòu)都在抓緊研發(fā)Micro LED。這類Micro LED設(shè)備通常用于包括平板電腦、智能手機和智能手表等設(shè)備的小尺寸屏幕中。

                但是,Micro LED技術(shù)的一些缺點,也阻礙了該技術(shù)的全面商業(yè)突破。Micro LED屏幕由可產(chǎn)生綠色、藍色和紅色光的微小的像素組成,而制造這些像素的一些步驟容易導致其精細納米級結(jié)構(gòu)的損壞,進而會導致光強度的損失。

                Picosun表示,現(xiàn)已證實ALD“可以有效地修復這些結(jié)構(gòu)損壞,不僅可以恢復照明強度,還可以將其提高到更高水平。”


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