由于終端市場需求趨緩,在供給提升速度大于需求增長速度下,拓墣產(chǎn)業(yè)研究所預估2016年全球晶圓代工產(chǎn)值年增長僅2.1%,半導體大廠的競爭將更加激烈。
2016年,三大半導體制造大廠資本開支金額預期較去年增長5.4%,其中,英特爾調(diào)升30%,達95億美元;臺積電調(diào)升17%,達95億美元;三星則逆勢調(diào)降15%,來到115億美元。拓墣表示,今年半導體大廠的資本開支預計至2017年才有機會對營收產(chǎn)生貢獻。
臺積電
專注制程開發(fā)、深耕InFo技術(shù)
中國南京廠建置為2016年三大重點
拓墣表示,半導體三巨頭中臺積電是唯一的純晶圓代工廠,與客戶無直接競爭關(guān)系,可專注于制程技術(shù)的開發(fā)。
2016年臺積電資本開支約70%用于先進制程的開發(fā),其中大部分用在10納米制程技術(shù),可見臺積電對10納米制程研發(fā)的重視。資本開支的10%則持續(xù)投入InFO技術(shù)的開發(fā),InFO技術(shù)有散熱佳、厚度和面積縮小、成品穩(wěn)定度高的優(yōu)勢,已有少數(shù)大客戶開始投單,預期未來將有更多客戶陸續(xù)投入。
為了就近服務(wù)廣大的中國市場,臺積電規(guī)劃30億美元用于中國南京12寸廠的建置,預期在2018年投產(chǎn)。今年南京廠計劃先投入5億美元,2017與2018年將增加投資力道。
三星電子
智能手機業(yè)務(wù)前景不明,
2016年半導體事業(yè)將是重心
智能手機是三星最重要的業(yè)務(wù),在終端市場需求趨緩、手機差異化縮小的情況下,三星受到蘋果與中國本土品牌的激烈競爭。根據(jù)三星財報顯示,2015年營收同比衰退2.6%,凈利下滑20.6%。相較智能手機,去年三星的半導體營收同比增長20%、內(nèi)存年增長17%,大規(guī)模集成電路(LSI)業(yè)務(wù)則同比增長約27.7%,表現(xiàn)十分亮眼。
拓墣指出,2016年三星的智能手機業(yè)務(wù)拓展仍不樂觀,除加速開發(fā)創(chuàng)新業(yè)務(wù),將更加重視晶圓代工業(yè)務(wù),采取積極搶單的策略。2016年三星115億美元的資本開支中,大規(guī)模集成電路業(yè)務(wù)會維持與2015年35億美元的相同水平。
英特爾
維持制程領(lǐng)先地位
擴展內(nèi)存相關(guān)業(yè)務(wù)
英特爾雖然在14/16納米制程技術(shù)開發(fā)上超車,但臺積電與三星若在10納米的技術(shù)上趕超,將使英特爾在CPU產(chǎn)品上面臨強大的競爭壓力,嚴重挑戰(zhàn)英特爾自1995年來的領(lǐng)先地位。2016年英特爾將持續(xù)擴大資本開支以維持制程領(lǐng)先,相關(guān)資本開支約達80億美元。
在數(shù)據(jù)中心的競爭中,2015年英特爾與美光聯(lián)合發(fā)表包含3D-NAND與Xpoint等用于內(nèi)存的技術(shù),此外更宣布投資25億美元把大連廠打造成內(nèi)存制造廠。2016年英特爾的資本開支中約有15億美元將投資在內(nèi)存相關(guān)業(yè)務(wù)。