根據(jù)科技部網(wǎng)站公布的消息,國家重點(diǎn)支持的高新技術(shù)領(lǐng)域:
一、電子信息
二、生物與新醫(yī)藥
三、航空航天
四、新材料
五、高技術(shù)服務(wù)
六、新能源與節(jié)能
七、資源與環(huán)境
八、先進(jìn)制造與自動化
其中,半導(dǎo)體新材料制備與應(yīng)用技術(shù)被包含于“金屬材料”類別下,屬于新材料高新技術(shù)領(lǐng)域。
該類技術(shù)包括石墨烯制備及應(yīng)用技術(shù);大尺寸硅單晶生長、晶片拋光片、SOI片及SiGe/Si外延片制備加工技術(shù);大型MOCVD關(guān)鍵配套材料、硅襯底外延和OLED照明新材料制備技術(shù);大尺寸砷化鎵襯底、拋光及外延片、GaAs/Si材料制備技術(shù);紅外鍺單晶和寬帶隙單晶及外延材料制備技術(shù);第三代寬禁帶半導(dǎo)體材料制備技術(shù);高純金屬鎵、銦、砷、鍺、磷、鎘半導(dǎo)體蒸餾、區(qū)熔提純大型連續(xù)化工藝技術(shù),高純及超高純有色金屬材料精煉提純技術(shù)及痕量雜質(zhì)測試技術(shù);低污染硅烷法高純度電子級多晶硅提純、后處理、區(qū)熔規(guī)?;a(chǎn)技術(shù)等。
高污染、高能耗、低光電轉(zhuǎn)換效率的太陽能電池用單晶、多晶硅制備加工技術(shù)除外。